泰納克熔片機采用新型高性能保溫隔熱材料，馬弗爐式結構，爐內(nèi)安裝了擁有自主知識產(chǎn)權的、可旋轉的高溫陶瓷載樣盤，可放置4個自動成形用的坩堝。爐體可進行程控擺動，通過載樣盤的旋轉和爐體的擺動實現(xiàn)樣品的均勻化。熔樣溫度、熔樣時間、轉擺頻率和總次數(shù)等參數(shù)由配備有大型液晶顯示屏的控制面板設置，簡便、易學。
特點：
1、采用電熱熔樣方式，溫度控制精度高，在通常熔樣溫度下溫度顯示誤差優(yōu)于±3℃，可為分析過程提供可靠的質(zhì)量保證，并可為研究工作提供準確的試驗參數(shù)。
2、可在15分鐘內(nèi)，同時制備4個樣品，并自動成形。單個樣品的平均制樣時間為～4分鐘。
3、陶瓷載樣盤（號：ZL03266100.2），可直接放置鉑－黃合金坩鍋，造價便宜，使用壽命長。
4、樣品混勻機構和爐體結構（號：ZL03260941.8），借助于電動推桿和減速馬達，可實現(xiàn)三維轉擺，充分混勻；還可利用減速馬達調(diào)節(jié)載樣盤的位置，便于取放樣品。
5、采用小爐門設計，能保護加熱元件及爐膛免受大的熱沖擊，并減小開啟爐蓋后的泄溫，使連續(xù)熔樣操作時升溫快。
6、采用高性能保溫、隔熱材料，熔樣機總功率小于3kW，遠低于同類產(chǎn)品。
7、熔樣參數(shù)設置采用人機對話方式，單一鍵盤輸入，易于理解，便于操作，2分鐘內(nèi)學會使用。整機采用模塊化設計，便于維護、維修和升級。
8、系統(tǒng)使用安全、壽命長、性能價格比高。
9、熔融樣片均勻平整、無氣泡，滿足高精度分析要求。
熔片機坩堝使用注意事項：
1、減少腐蝕：這也是zui重要的。任何氧化不*的物質(zhì)都可能引起對坩堝的腐蝕，比如硫化物、鐵合金、Cu2O等，所以不要抱有任何僥幸心理，在熔融前需要對樣品有充分的了解。
2、清洗：坩堝在使用過程中，由于某些特殊樣品可能會導致脫模效果不好，坩堝中會黏附玻璃殘渣。殘渣快速的清洗方法一般用稀酸煮沸，需強調(diào)的是必須用單一酸，或硝酸，或鹽酸，千萬不能用硝酸和鹽酸的混酸。另一種方法就是加入熔劑再進行一次熔融，脫模后傾倒出玻璃片即可。
3、拋光：對于一些輕微的腐蝕，比如坩堝失去光澤時，可以嘗試對坩堝進行一次拋光。一般可用絨布或細粒砂紙（比如800目）高速摩擦坩堝，使坩堝恢復光滑。拋光操作一定要小心，切不可用粗砂紙直接摩擦坩堝。如果腐蝕太嚴重時，對坩堝進行一次重鑄。
